波达真空镀膜机不同于其它设备的亮点！

重复性能好，采用新型光纤式光控仪，配备温度可控的80噗监控玻璃机构，可获得近似设计规格的镀膜效果。利用稳定的真空获得技术和降低微尘及颗粒污染技术，可在不进行清扫的数据修正的情况下，实现连续20批次镀制IR截至滤光时达到：不需要条件校正，不需要清扫。薄膜质量稳定，通过特别方法，彻底排放废气，即使在真空槽内部有污染的情况下，亦可获得稳定的特性和薄膜质量。在连续镀制20批次IR截止滤光片的过程中，可以将雾气浊度的增加控制在最小。可降低颗粒及微尘污染，通过抑制排气喘流，蒸发源附近的防污染措施，电子枪功率维调等方法，大幅度降低了薄膜表面的颗粒及维尘堆积。采用目前业界唯一的新型蒸发源单元、坩埚组合技术可预防颗粒及微尘的污染。高功率RF离子源，采用日本专用配置的高功率RF离子源，可由多层膜的光学滤光片到树脂胶卷等大范围基材上镀制高品质薄膜。使用独特的方法确保离子中和器的点火性能，使其稳定放电。波达碳氢真空清洗机查看地址：http://www.pt.com.cn/products/pt-tanqinji/

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